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  • Objetivo de cobre plano
    El objetivo de cobre plano es un objetivo plano, en forma de disco o de pulverización rectangular utilizados en los procesos de deposición de vapor físico (PVD) para depositar películas de cobre
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  • Objetivo de cobre rotativo
    El objetivo de cobre rotativo, también conocido como un objetivo de pulverización rotatable o cilíndrico, se usa en ciertos tipos de sistemas de pulverización, como la pulverización de magnetrón,
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Antes de comenzar la cooperación, sentimos la actitud seria de su equipo, y también recomendaron sinceramente los productos que necesitamos.
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