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Objetivo de cobre rotativoEl objetivo de cobre rotativo, también conocido como un objetivo de pulverización rotatable o cilíndrico, se usa en ciertos tipos de sistemas de pulverización, como la pulverización de magnetrón,Más
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Objetivo de cobre planoEl objetivo de cobre plano es un objetivo plano, en forma de disco o de pulverización rectangular utilizados en los procesos de deposición de vapor físico (PVD) para depositar películas de cobreMás
Antes de comprar productos de este proveedor, necesitamos conectarnos con múltiples proveedores. Pero tienen una gran variedad de productos que nos ahorra muchos problemas.
Recibí muy buenos productos y servicios, ¡gracias!
La mano de obra de nuestros productos es muy buena, y no hemos encontrado ningún rasguño. Compraré otros estilos la próxima vez.
Cuando recibí este producto por primera vez, pensé que estaba un poco preocupado por si el estante podía soportar peso. Después de la instalación, era muy estable.
Estos productos son muy rentables y me encantaría recomendarlos a más personas.
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