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Objetivo de cobre rotativoEl objetivo de cobre rotativo, también conocido como un objetivo de pulverización rotatable o cilíndrico, se usa en ciertos tipos de sistemas de pulverización, como la pulverización de magnetrón,Más
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Objetivo de cobre planoEl objetivo de cobre plano es un objetivo plano, en forma de disco o de pulverización rectangular utilizados en los procesos de deposición de vapor físico (PVD) para depositar películas de cobreMás
La persona a cargo de comprar en esta empresa es muy accesible, por lo que pudimos considerar completamente todas nuestras opciones y no se arrepenten. ¡Muy recomendable!
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