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Objetivo de cobre planoEl objetivo de cobre plano es un objetivo plano, en forma de disco o de pulverización rectangular utilizados en los procesos de deposición de vapor físico (PVD) para depositar películas de cobreMás
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Objetivo de cobre rotativoEl objetivo de cobre rotativo, también conocido como un objetivo de pulverización rotatable o cilíndrico, se usa en ciertos tipos de sistemas de pulverización, como la pulverización de magnetrón,Más
La calidad es la base para la supervivencia a largo plazo de las empresas y la medalla de oro de la competencia empresarial. Esta compañía ha ganado el favor de los clientes y socios debido a sus
Desde la selección de materias primas hasta el transporte, controlamos estrictamente la calidad del producto en cada paso del proceso de fabricación.
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