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Objetivo de cobre planoEl objetivo de cobre plano es un objetivo plano, en forma de disco o de pulverización rectangular utilizados en los procesos de deposición de vapor físico (PVD) para depositar películas de cobreMás -
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Objetivo de cobre rotativoEl objetivo de cobre rotativo, también conocido como un objetivo de pulverización rotatable o cilíndrico, se usa en ciertos tipos de sistemas de pulverización, como la pulverización de magnetrón,Más
Horace Thompson
Nuestra compañía tiene su propio equipo técnico y de ventas, y es una empresa diversificada que integra I + D, producción, ventas y servicio.
Giovanni Gill
El taller de producción de este fabricante tiene un alto grado de estandarización, y también sentimos el entusiasmo y la dedicación de sus empleados durante la visita, por lo que elegimos cooperar
Sharyn Watkins
No es la primera vez que hemos trabajado juntos, pero puedo sentir que nunca ha bajado sus estándares de calidad, lo que apreciamos.
David no
Buen vendedor, ¡espero que más personas los apoyen!
Rebecca Weaver
Recibimos un artículo de muy buena calidad y la logística fue sorprendentemente rápida, continuaré pidiendo este producto la próxima vez que lo necesitemos.
Sara Hughes
Estos bienes son rentables y el servicio del vendedor es muy bueno.
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