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Objetivo de cobre planoEl objetivo de cobre plano es un objetivo plano, en forma de disco o de pulverización rectangular utilizados en los procesos de deposición de vapor físico (PVD) para depositar películas de cobreMás
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Objetivo de cobre rotativoEl objetivo de cobre rotativo, también conocido como un objetivo de pulverización rotatable o cilíndrico, se usa en ciertos tipos de sistemas de pulverización, como la pulverización de magnetrón,Más
Su equipo de servicio postventa es muy perfecto y los productos son muy confiables. Continuaremos cooperando con ellos en el futuro.
Esta compañía cree que la circulación estandarizada del mercado no puede separarse del concepto de cooperación de ganar-ganar. Por lo tanto, otorgan una gran importancia a sus parejas y siempre nos
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